ahd-750-n，日本ahd-500r，半导ahd-5000r，成用vtd-2000p，光源ahd-12000ph，紫外ahd-5001ph2，线灯ahd-2000pdiorc欧阿希曝光chm-4025，日本chm-630，半导orc欧阿希smx系列，成用mxa系列orc欧阿希smx-7000h，光源smx-3000/e-fs，紫外orc欧阿希低压uv灯orc欧阿希vuv-040/a2.2u，线灯glm-956/c-10u，日本vuv-080/a-3.6u，半导vuv-100/a-5.3u，成用orc欧阿希hmh-8400/e-olc，hvf5000-1c/r，hhm-1200/e-fs，hhl-800/c-florc欧阿希hhl-1000/a-fs，hhl-11.2k/c-fs，hhl-12.8k/c-fs，hhl-1500/b-fs，hhl-2000/a-fs，hhl-2000/c-fs，hhl-2800/a-fs，hhl-4000/a-fsorc欧阿希hhl-3000/b-fs，hhl-4500/b-fs，hhl-6600/b-fs，hhl-9000/b-fs，hhl-9600/b-fs，365nm紫外线照度计orc本体型号uv-m03a，受光器型号：sn-35。日本半导体回路形成用光源紫外线灯
超高圧uvランプは、紫外線波長の中でも、特に3線（436nm・405nm・365nm)を有効に活用できるように開発されており、長寿命で安定した放射照度を持つ高輝度光源です。 アークサイズが極めて点光源に近いため、光学系での光の集中・拡散が容易で、均一な照度分布が得られます。装置メーカーとの共同開発体制を背景に、デバイスメーカーのさまざまな要望に応える開発を進め、高い評価と信頼を得ているリソグラフィ用uvランプです。5kw～16kwクラスまでの幅広いラインナップで、生産性向上・歩留まり改善などに光をご提案します。また、お客さまの新規装置開発にあわせたランプ開発も承ります。受光器紫外线灯高压汞灯紫外线光的分光分布。
金属卤素灯在含有汞及氩气等稀有气体的uv灯的基础上添加铁掺合、钾掺合或其它稀土金属原素掺合。铁掺合卤素灯特别增强了380hm作为比较高波峰。主要适用于油墨、油漆的固化，干膜、湿膜，绿色阻焊的曝光。在网印和固化中带颜色，特别是涂层较厚的产品和白色、黑色的干燥有突出的效果。pcb、lcd行业：pcb 是电路板 uv灯管用于电路板的印刷一般使用metal（金属卤素灯管），另外还有一种是曝光灯也属于金属卤素灯 pcb制作的时候，用于曝光显影的，一般用在电路板公司。lcd是显示屏，一般用低压冷紫外线灯管和固化用的灯管不一样，但是都属于紫外线灯，用途不一样。
特定の気体と金属蒸気の放電によって発光する電極間隔が1〜10ｍｍ程度のランプで、点灯中の圧力は100kpa以上です。リソグラフィ用uvランプとして高い評価と信頼をいただいています。orcショートアークuvランプは高効率で紫外線を放射する点光源として、露光、乾燥、その他あらゆる産業、研究分野で利用されています。お客さまの御要望にお応えする幅広いラインナップを取りそろえており、共同開発などの課題解決のお役に立てます。orc紫外线灯中国代理店。
曝光系统重要部件之一是紫外光源。常见光源分为:可见光：g线：436nm紫外光（uv），i线：365nm深紫外光（duv）,krf 准分子激光：248 nm, arf 准分子激光：193 nm极紫外光（euv），10 ~ 15 nm对光源系统的要求a.有适当的波长。波长越短，可曝光的特征尺寸就越小；[波长越短，就表示光刻的刀锋越锋利，刻蚀对于精度控制要求越高。]b.有足够的能量。能量越大，曝光时间就越短；c.曝光能量必须均匀地分布在曝光区。[一般采用光的均匀度或者叫不均匀度、光的平行度等概念来衡量光是否均匀分布]常用的紫外光光源是高压弧光灯（高压汞灯），高压汞灯有许多尖锐的光谱线，经过滤光后使用其中的g 线（436 nm）或i 线（365 nm）。对于波长更短的深紫外光光源，可以使用准分子激光。例如krf 准分子激光（248 nm）、arf 准分子激光（193 nm）和f2准分子激光（157 nm）等。曝光系统的功能主要有：平滑衍射效应、实现均匀照明、滤光和冷光处理、实现强光照明和光强调节等。紫外线在表面改质方面应用。清洗uv灯紫外线灯6glz35al
ushio紫外线光源采购。日本半导体回路形成用光源紫外线灯
fx-51s/61sfx-801m2003fx-53s/63s2004yokohama plant yokosuka branch (now yokosuka plant) is built.2005fx-71s/81s2007tochigi nikon precision co., ltd. is established.fx-803m/903n2008sendai nikon precision corporation is established.fx-75s/85s, fpd scanner for 7th and 8th generation plate sizes2009mito nikon precision corporation is merged with tochigi nikon precision co., ltd.sendai nikon precision corporation is merged with miyagi nikon precision co., ltd.fx-101s, fpd scanner for 10th generation super-large plate size2010sales of fpd lithography systems in chinese market start.2011fx-66sfx-76s/86s2012yokosuka plant is completed.fx-67s, fpd scanner achieving resolution of 2 µm2013building 530 at yokohama plant is closed. construction of building 502 is completed.nikon precision singapore pte ltd is merged with nikon singapore pte. ltd.fx-86sh2fx-86s22016fx-68s, fpd scanner achieving resolution of 1.5 µm2018fx-103sh/103s, fpd scanner for generation 10.5 plate size2021fx-6as, fpd scanner achieving the highest resolution of 1.2 µm日本半导体回路形成用光源紫外线灯
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